光刻工藝制程過(guò)濾解決方案

光刻工藝是指在光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）的作用下，借助光刻膠將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)，光刻工藝是半導(dǎo)體制造中最為重要的工藝步驟之一。其成本約為整個(gè)硅片制造工藝的1/3，耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的40～60%。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，隨著半導(dǎo)體加工的線寬越來(lái)越小，光刻工藝對(duì)極小污染物的控制苛刻到極致，不光對(duì)顆粒嚴(yán)格控制，對(duì)低析出物也有著嚴(yán)苛的要求。邁博瑞使用先進(jìn)的設(shè)備工藝，生產(chǎn)出的產(chǎn)品具有優(yōu)秀的過(guò)濾效率，潔凈度以及化學(xué)耐受性以應(yīng)對(duì)不同的SEMI光刻工藝應(yīng)用

光刻工藝制程過(guò)濾產(chǎn)品

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